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泰思肯MIRA通用分析型高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
- 進(jìn)口
- 捷克/Tescan
- MIRA
- 2024-1-31
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產(chǎn)品詳情
MIRA通用分析型高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
TESCAN MIRA是最新推出的第四代高性能掃描電子顯微鏡,配置有高亮度肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)赥ESCAN的 Essence™ 操作軟件的同一個(gè)窗口中實(shí)現(xiàn)了SEM成像和實(shí)時(shí)元素分析。這種結(jié)合大大簡(jiǎn)化了從樣品中獲取形貌和元素?cái)?shù)據(jù)的過(guò)程,從而使得MIRA成為質(zhì)量控制、失效分析和實(shí)驗(yàn)室常規(guī)材料檢測(cè)的有效分析解決方案。
產(chǎn)品特點(diǎn)
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
TESCAN MIRA是最新推出的第四代高性能掃描電子顯微鏡,配置有高亮度肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)赥ESCAN的 Essence™ 操作軟件的同一個(gè)窗口中實(shí)現(xiàn)了SEM成像和實(shí)時(shí)元素分析。這種結(jié)合大大簡(jiǎn)化了從樣品中獲取形貌和元素?cái)?shù)據(jù)的過(guò)程,從而使得MIRA成為質(zhì)量控制、失效分析和實(shí)驗(yàn)室常規(guī)材料檢測(cè)的有效分析解決方案。
產(chǎn)品特點(diǎn)
- 完全集成的 TESCAN Essence™ EDS功能,可以快速、輕松地從成像切換到元素分析操作。
- 獨(dú)有的實(shí)時(shí)電子束追蹤技術(shù)(In-flight Beam Tracing™)功能,可設(shè)置優(yōu)化束斑尺寸和束流強(qiáng)度。
- 獨(dú)特的大視野光路(Wide Field Optics™)設(shè)計(jì),可實(shí)現(xiàn)放大倍率低至2倍,因而無(wú)需額外的光學(xué)導(dǎo)航相機(jī),即可輕松、對(duì)樣品進(jìn)行導(dǎo)航。
- 標(biāo)配的 SingleVac™ 模式,不導(dǎo)電樣品或電子束敏感樣品無(wú)需噴鍍即可在此模式下直接進(jìn)行觀察。
- 可選配的鏡筒內(nèi) SE 和 BSE 探測(cè)器,以及電子束減速技術(shù),更好的提升了低電壓下的成像性能。
- 標(biāo)準(zhǔn)分析平臺(tái),可選配集成最多種類(lèi)的探測(cè)器和附件。
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