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壓力對(duì)Cs2WCl6在NIR-II窗口中發(fā)射的影響

瀏覽次數(shù):480 發(fā)布日期:2025-10-28  來(lái)源:恒光智影

本文要點(diǎn):第二近紅外(NIR-II)熒光材料在生物醫(yī)學(xué)成像和光學(xué)傳感領(lǐng)域具有廣闊應(yīng)用前景,但其發(fā)展受限于發(fā)射波長(zhǎng)較短、光致發(fā)光效率低下及發(fā)射光譜狹窄等問(wèn)題。本研究通過(guò)壓力工程成功實(shí)現(xiàn)了零維無(wú)鉛空位有序雙鈣鈦礦Cs2WCl6從第一近紅外(NIR-I)到NIR-II窗口的發(fā)射調(diào)控。在外加壓力作用下,材料表現(xiàn)出6.9倍的發(fā)射增強(qiáng)與高達(dá)227 nm的紅移現(xiàn)象。壓力效應(yīng)通過(guò)增強(qiáng)結(jié)構(gòu)剛性降低電子-聲子耦合作用,減少非輻射能量損耗,進(jìn)而優(yōu)化了振動(dòng)耦合d-d電子躍遷(1T2g/1Eg→3T1g)的發(fā)射性能。隨著壓力增加,3T1g與1T2g/1Eg能級(jí)差持續(xù)減小,W─Cl鍵收縮加劇晶體場(chǎng)分裂,多態(tài)發(fā)射平衡調(diào)控共同驅(qū)動(dòng)發(fā)射紅移。該研究不僅驗(yàn)證了壓力調(diào)控實(shí)現(xiàn)NIR-II發(fā)射的有效性,更為結(jié)構(gòu)演變與光學(xué)性能的關(guān)聯(lián)機(jī)制提供了深層理論闡釋。



圖1. Cs2WCl6的壓力調(diào)制能帶結(jié)構(gòu)演化與壓致變色

在Cs2WCl6的晶體結(jié)構(gòu)中,該材料以A2BCX6型零維空位有序雙鈣鈦礦框架結(jié)晶(B位點(diǎn)=W⁴⁺;C位點(diǎn)空位),鎢原子與六個(gè)氯原子形成八面體配位的孤立[WCl6]²⁻單元(圖1a)。這些被Cs⁺陽(yáng)離子分隔的八面體單元構(gòu)建出零維結(jié)構(gòu),其空位有序設(shè)計(jì)會(huì)引發(fā)強(qiáng)烈瞬態(tài)晶格畸變,導(dǎo)致體系內(nèi)產(chǎn)生顯著的電子-聲子耦合作用。然而,[WCl6]²⁻八面體的高對(duì)稱性通過(guò)限制結(jié)構(gòu)畸變抑制了自陷激子(STEs)形成,而W⁴⁺構(gòu)型的強(qiáng)晶體場(chǎng)分裂(10Dq)促進(jìn)了自旋軌道耦合的d-d電子躍遷。具體而言,近紅外發(fā)射源于宇稱與自旋禁阻的1T2g/1Eg→3T1g躍遷,該躍遷通過(guò)振動(dòng)耦合和相對(duì)論性自旋軌道相互作用獲得部分允許。常壓下,Cs2WCl6展現(xiàn)出900-1300 nm的寬發(fā)射光譜,峰值位于973 nm(圖1b)。

為深入探究Cs2WCl6能帶結(jié)構(gòu)的演化規(guī)律,首先開(kāi)展原位高壓紫外-可見(jiàn)吸收測(cè)試(圖1c,d)。加壓過(guò)程中樣品顏色由綠漸變?yōu)槌、黃、紅直至棕褐色,呈現(xiàn)顯著壓致變色效應(yīng)(圖1c)。吸收光譜持續(xù)紅移(圖1c,d),其中477 nm處的初始吸收邊對(duì)應(yīng)常壓2.6 eV的間接帶隙。當(dāng)壓力升至18.0 GPa時(shí),基于Tauc圖計(jì)算顯示帶隙縮窄至1.9 eV(圖1f)。繼續(xù)加壓至28.0 GPa仍觀察到吸收光譜紅移,對(duì)應(yīng)帶隙持續(xù)減小。帶隙壓力敏感性呈現(xiàn)兩段線性變化:7.2 GPa以下以0.05 eV/GPa速率快速下降,超過(guò)該壓力后降速減緩至0.025 eV/GPa,這種突變可能預(yù)示著壓力誘導(dǎo)的電子結(jié)構(gòu)相變。

值得注意的是,550-950 nm范圍內(nèi)的吸收光譜存在顯著子帶吸收峰(圖1b,e),源于3T1g→1T2g/1Eg的d-d躍遷。隨著壓力增加,該吸收峰逐漸紅移,表明3T1g基態(tài)與1T2g/1Eg激發(fā)態(tài)之間的能隙減小。由于相應(yīng)的1T2g/1Eg→3T1g躍遷是主要發(fā)射路徑,可推測(cè)熒光發(fā)射峰也將伴隨吸收紅移產(chǎn)生相應(yīng)變化。

圖2. NIR-II窗口中的調(diào)制發(fā)射

低溫(78-318K)光致發(fā)光(PL)測(cè)試表明,隨著溫度降低,Cs2WCl6的發(fā)射強(qiáng)度增強(qiáng)并呈現(xiàn)多峰分辨的光譜特征(圖2a)。圖2b-f展示了不同壓力下Cs2WCl6在900-1700 nm范圍內(nèi)的PL光譜變化。研究發(fā)現(xiàn),從常壓到28 GPa壓力范圍內(nèi),Cs2WCl6的發(fā)射始終保持在近紅外區(qū)域。值得注意的是,熒光強(qiáng)度隨壓力增加而提升,在7.0 GPa時(shí)達(dá)到6.9倍的最大增強(qiáng)(圖2b-d)。該強(qiáng)度峰值與圖1g中7.2 GPa處觀察到的帶隙變化相吻合,表明電子結(jié)構(gòu)調(diào)控與發(fā)光特性存在強(qiáng)關(guān)聯(lián)性。

常壓下Cs2WCl6的發(fā)射中心位于973 nm,其光譜主要分布在NIR-I區(qū)域,NIR-II窗口的發(fā)射較弱,限制了應(yīng)用潛力。壓力釋放后,材料熒光強(qiáng)度降低且相較于初始狀態(tài)殘留10 nm紅移,表明壓力誘導(dǎo)的部分非晶化阻礙了結(jié)構(gòu)完全恢復(fù)(附圖S6)。高壓研究顯示發(fā)射中心呈現(xiàn)近線性紅移,從973 nm移動(dòng)至1200 nm,總偏移量達(dá)227 nm,壓力敏感度Δλ/ΔP=7.9 nm·GPa⁻1。歸一化PL光譜證實(shí)壓縮后的Cs2WCl6發(fā)射顯著向長(zhǎng)波方向移動(dòng)(圖2e,f)。此外,隨著壓力增加,PL光譜的半高寬逐漸展寬,表明近紅外發(fā)射窗口擴(kuò)大。由此可見(jiàn),壓力調(diào)控成功實(shí)現(xiàn)了Cs2WCl6發(fā)射從NIR-I到NIR-II窗口的跨越,這對(duì)發(fā)展NIR-II窗口近紅外材料具有重要意義。

圖3. Cs2WCl6在高壓下的結(jié)構(gòu)演化

為深入理解Cs2WCl6結(jié)構(gòu)與光學(xué)特性的關(guān)聯(lián)性,開(kāi)展了高壓同步輻射X射線衍射(XRD)實(shí)驗(yàn)(圖3a)。通過(guò)對(duì)XRD數(shù)據(jù)的精修,確認(rèn)了Cs2WCl6初始立方相結(jié)構(gòu),其屬于Fm-3m空間群,晶格參數(shù)a=10.23 Å(α=β=γ=90°),與文獻(xiàn)報(bào)道一致(圖3b)。圖3a中XRD峰位隨壓力增加向高角度方向的移動(dòng)證實(shí)了結(jié)構(gòu)壓縮現(xiàn)象。值得注意的是,在整個(gè)測(cè)試壓力范圍內(nèi)未出現(xiàn)新衍射峰,表明材料保持結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性而未發(fā)生相變。當(dāng)壓力升至18.0 GPa時(shí),衍射峰強(qiáng)度下降暗示晶體的長(zhǎng)程有序結(jié)構(gòu)遭到破壞,導(dǎo)致結(jié)晶度降低。

圖4. Cs2WCl6在壓力下銫的排放機(jī)理說(shuō)

PL光譜分析顯示存在不對(duì)稱發(fā)射峰,表明1T2g/1Eg→3T1g躍遷存在不同振動(dòng)耦合能級(jí)的發(fā)射特征(圖4)。通過(guò)高斯分峰擬合獲得三個(gè)對(duì)稱發(fā)射峰:963 nm(1.29 eV,常壓)、1060 nm(1.17 eV,常壓)和1181 nm(1.05 eV,1.0 GPa),分別對(duì)應(yīng)E1、E2和E3三個(gè)相鄰發(fā)射能級(jí)。這些峰位呈現(xiàn)高度一致的0.12 eV能級(jí)間隔,源于1T2g/1Eg激發(fā)態(tài)與3T1g基態(tài)不同振動(dòng)激發(fā)態(tài)(v=1,2,3)之間的輻射躍遷。值得注意的是,常壓下僅出現(xiàn)E1和E2兩個(gè)峰位,隨著壓力增加,第三個(gè)峰位E3逐漸顯現(xiàn)并成為核心發(fā)射點(diǎn)——1180 nm(1.05 eV)處E3峰的出現(xiàn),標(biāo)志著壓力激活了低能振動(dòng)態(tài)的輻射復(fù)合過(guò)程。

發(fā)射組分的強(qiáng)度、半高寬及峰位變化如圖4c所示。三個(gè)d-d躍遷振動(dòng)耦合發(fā)射組分(E1-E3)的強(qiáng)度均在7.0 GPa達(dá)到最大值,與整體發(fā)射趨勢(shì)一致。超過(guò)7.0 GPa后強(qiáng)度逐漸下降,其中E1組分在20.0 GPa以上完全消失。三個(gè)組分的半高寬(在壓縮初期略有收窄,但在20.0 GPa后出現(xiàn)突變,暗示壓力誘導(dǎo)的振動(dòng)耦合層級(jí)改變。盡管存在波動(dòng),較大的半高寬仍保障了材料在NIR-II窗口的寬譜覆蓋特性。

圖3d闡明了Cs2WCl6在常壓與壓縮狀態(tài)下的發(fā)射機(jī)制。PL光譜分析表明:常壓下材料主要通過(guò)兩個(gè)高能躍遷(E1和E2)發(fā)射,對(duì)應(yīng)1T2g/1Eg→3T1g的d-d電子躍遷分別耦合v=1和v=2振動(dòng)能級(jí);而最低能級(jí)組分(E3,v=3)因強(qiáng)電子-聲子耦合處于淬滅狀態(tài)。隨著壓力增加,晶格剛性增強(qiáng)抑制了電子-聲子相互作用,不僅激活了更高振動(dòng)能級(jí)(v=3,E3)的發(fā)射通道,還通過(guò)減少聲子輔助的非輻射損耗顯著提升了所有振動(dòng)耦合d-d躍遷的輻射效率。同時(shí),壓縮過(guò)程中基態(tài)3T1g與激發(fā)態(tài)1T2g/1Eg的能隙(ΔET)持續(xù)減小,直接驅(qū)動(dòng)1T2g/1Eg→3T1g發(fā)射的整體紅移。此外,壓力誘導(dǎo)的W─Cl鍵收縮增強(qiáng)了晶體場(chǎng)分裂能(10Dq),進(jìn)一步縮小1T2g/1Eg→3T1g能隙并放大發(fā)射紅移效應(yīng)。超過(guò)7 GPa后,逐漸出現(xiàn)的晶格畸變和初始非晶化引入缺陷與應(yīng)變,形成新的非輻射路徑,抵消了電子-聲子耦合減弱帶來(lái)的輻射增強(qiáng),導(dǎo)致所有峰位的總發(fā)射強(qiáng)度下降。值得注意的是,在整個(gè)壓力范圍內(nèi)發(fā)射平衡持續(xù)向低能躍遷轉(zhuǎn)移:20 GPa以上最高能發(fā)射(E1)消失,而低能組分(E2、E3)占比增加,最終實(shí)現(xiàn)向更深NIR-II窗口的持續(xù)紅移。壓力對(duì)初始多組分發(fā)射平衡的擾動(dòng)揭示出新型輻射通道,通過(guò)優(yōu)化協(xié)同發(fā)射特性拓寬PL光譜半高寬,最終促成寬帶NIR-II發(fā)射的轉(zhuǎn)變。

總之,本文研究表明,壓力是實(shí)現(xiàn)在無(wú)鉛0D空位有序雙鈣鈦礦Cs₂WCl₆中顯著紅移和NIR-II窗口發(fā)射增強(qiáng)的有效手段。‌壓力誘導(dǎo)的能帶結(jié)構(gòu)和PL動(dòng)力學(xué)變化對(duì)于觀測(cè)到的熒光特性和壓致變色現(xiàn)象至關(guān)重要。‌在≈7.0 GPa處識(shí)別的等構(gòu)相變與發(fā)射行為的顯著變化相關(guān),為結(jié)構(gòu)-光學(xué)性質(zhì)關(guān)系提供了更深層次的理解。‌這項(xiàng)工作不僅加深了對(duì)高壓下鈣鈦礦材料的認(rèn)識(shí),還為開(kāi)發(fā)可壓力調(diào)諧的NIR-II發(fā)射器在生物成像和光電子學(xué)中的潛在應(yīng)用鋪平了道路。

 

參考文獻(xiàn)

Wang, Jingtian, et al., Pressure Modulates Emission of Cs2WCl6 in the NIR‐II Window., Laser & Photonics Reviews (2025): e01238.

 

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