Integrated Optics 小型緊湊連續(xù)激光器的技術(shù)優(yōu)勢與應(yīng)用案例

Integrated Optics成立于2012年，其愿景是開發(fā)全球最緊湊的實驗室激光平臺和新型微光學(xué)組裝技術(shù)。Integrated Optics公司率先開發(fā)出專有的微光學(xué)組裝方法——印刷光學(xué)電路板技術(shù)（POCB™）。這項創(chuàng)新技術(shù)通過尖端機器人技術(shù)和定制軟件解決方案，實現(xiàn)復(fù)雜光學(xué)布局與激光腔配置的精密可靠組裝。

Integrated Optics小型激光器專為集成設(shè)計，深受科學(xué)家青睞！MatchBox系列激光器具備高度可配置性，在微型封裝中實現(xiàn)高端性能。智能功率電子元件集成于同一外殼內(nèi)。MatchBox提供最高功率密度與最佳性能價格比。

• 連續(xù)激光器:超過20個波長可選，空間光輸出，多模光纖輸出，單模光纖輸出，保偏光纖輸出，并有窄線寬可選。

• 激光器合束器:可以集成4個波長在Matchbox內(nèi)，可選空間光輸出和光纖輸出。

• 脈沖激光器:1029nm，514.3nm高能量納秒、皮秒激光器。

產(chǎn)品特點及優(yōu)勢

體積小巧，50x30x18 mm，適用于集成具有相同的尺寸，相同的控制接口，便于更換5V供電，低功耗，適用于電池供電的系統(tǒng)

• 多波長可選

• 數(shù)字調(diào)制和模擬調(diào)制

• 可選光纖耦合輸出(SM，F(xiàn)M，MI)

• 節(jié)省空間的針頭連接器，便于0m集成控制

• 自動功率控制

• TEC制令

• 過熱保護

• 多種配件可選

• 友好的軟件界面

主要應(yīng)用：

• 激光雷達

• 流式細胞儀

• 熒光顯微

• 全反射熒光TIRF

• 共焦顯微

• DHA測序

• 拉曼光譜學(xué)

• 醫(yī)學(xué)診斷

• 環(huán)境監(jiān)測

• 激光衍射粒子分析

• 食品分析

• NV磁力測量

• 量子密碼學(xué)

• LIBS

• 光聲成像

示例型號 633nm

常規(guī)光譜 633 激光激光器是光譜分析、工業(yè)干涉測量和距離測量領(lǐng)域的理想選擇。高輸出功率可確保為 Alexa Fluor（633、647、660 等）、APC（Cy5.5、Cy7、H7）、Cy5 等多種熒光染料提供可靠的激發(fā)光源。該設(shè)備具備優(yōu)異的熒光特性，為流式細胞術(shù)、顆粒分析和動態(tài)光散射等技術(shù)的整合應(yīng)用提供了理想平臺。激光器采用緊湊型設(shè)計，工作電壓為 5V，通過內(nèi)置的 TEC 實現(xiàn)溫度穩(wěn)定，并配備自動功率控制（APC），確保長期穩(wěn)定運行，獲得精準可靠的數(shù)據(jù)結(jié)果。

633 nm自由空間輸出型號的典型光譜

（以20pm分辨率測量）

典型遠場
拉曼光譜學(xué)應(yīng)用案例

劍橋大學(xué)材料科學(xué)與冶金系團隊利用拉曼光譜分析薄膜，采用633 nm和785 nm激光激發(fā)系統(tǒng)，評估了十四種常用單晶基底在薄膜拉曼光譜分析中的適用性。通過識別各基底及跨基底條件下最顯著的拉曼峰及其相對強度，確定了薄膜表征的最佳波數(shù)范圍。

團隊使用了Integrated Optics的633 nm和785 nm兩臺連續(xù)單縱模激光器，其在樣品表面的輸出功率分別為1.5 mW和0.2 mW。

上圖展示了用于拉曼測量的光學(xué)配置簡化示意圖。研究采用的激光器為Integrated Optics公司生產(chǎn)的Matchbox型號。激光光束首先通過兩個凈化濾光片（633nm激光）或兩個帶通BP濾光片（785nm激光）。其半高全寬（FWHM）分別為5nm（633nm激光）和0.6nm（785nm激光），以實現(xiàn)單色光輸出。隨后，光線經(jīng)銀鏡導(dǎo)向物鏡進入樣品。光譜儀狹縫入口處配置兩枚帶寬25nm的陷波濾光片（工作波長633nm），用于消除瑞利信號。在785nm激光配置中，則采用光譜帶寬為0.12nm的布拉格柵陷波濾光片（BNFs）。

參考文獻：
Jan, A., Strkalj, N., Nguyen, X. T., MacManus-Driscoll, J. L., & Di Martino, G. (2023). Comprehensive study of Raman optical response of typical substrates for thin-film growth under 633 nm and 785 nm laser excitation. Optics express, 31(21), 33914-33922.