不同應用場景下的飛納電鏡選型指南

2025飛納電鏡選型

飛納 (Phenom) 源自 FEI，誕生于荷蘭 “發(fā)明之城” 埃因霍溫，以 “任何人都可用的電鏡” 聞名于世。讓您的掃描電鏡測試變得簡單高效是我們一直以來的目標。

飛納目前在中國擁有 2000 多名用戶，包括數百家高校；中科院等各類研究院所；政府機構；以及新能源、生命科學等企業(yè)單位。研究領域涉及金屬及合金，電池，地質，考古，高分子，靜電紡絲，陶瓷，復合材料，生物醫(yī)學，微生物等。

制樣簡單 無需噴金即可觀察不導電樣品

飛納臺式掃描電鏡
相較傳統(tǒng)電鏡，成像速度提升 10 倍：
獨家采用，平均 3 年以上更換燈絲
不挑安裝環(huán)境，，放置高樓層也無需擔心
原廠集成能譜 EDS，
讓精密儀器無后顧之憂，
最“老”的電鏡，也是最“新”的電鏡!
自動化掃描電鏡，讓測試效率翻倍

01. 新品速遞
2024 年，飛納電鏡推出一系列新技術-- ChemiSEM 彩色成像軟件，ChemiPhase 物相分析軟件和 Phenom MAPS 大面積能譜拼圖軟件等最新技術，不僅打破大家對于掃描電鏡圖片是黑白的傳統(tǒng)認知，而且將掃描電鏡成像分析帶入一個全新的高度。

ChemiSEM 技術
EDS 能譜儀在電鏡工作時始終在后臺收集成分數據，利用算法同時處理 BSE 和 EDS 信號，實時顯示樣品的形態(tài)和定量元素分布結果。簡化對金屬、陶瓷、電池、涂層和軟材料等多種材料的復雜分析。
 

ChemiPhase 物相分析
統(tǒng)計分析 X 射線面掃成像數據，并按照成分組成的特異性進行相的劃分，提取出特征相分布。同時具有相歸類，計算相比例等功能，非常適用于合金、陶瓷、礦物分析等領域的測試分析。
 

Phenom MAPS 系統(tǒng)
Phenom MAPS 提供的是一個涵蓋所有樣品信息的數碼存檔，從全面（宏觀）到具體（微觀）無所不包，徹底變革了傳統(tǒng)掃描電鏡的分析與數據存儲模式。并且，多圖層數據可以包含能譜。
 

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此外，飛納電鏡還為大家?guī)�來集成于臺式掃描電鏡的 AFM（原子力顯微鏡）方案 —— Phenom AFM-SEM 原子力掃描電鏡一體機，實現(xiàn)在同一系統(tǒng)中對樣品進行多模態(tài)（SEM 及 AFM 形貌、元素、機械、電學、磁學）的關聯(lián)分析。
 

Phenom AFM-SEM 在樣品分析和先進的 3D 相關成像方面為用戶提供了前所未有的可能性，具有無與倫比的圖像對齊精度。多功能性證明了其在材料科學、納米技術、半導體、太陽能電池開發(fā)、生命科學和其他研究領域以及工業(yè)應用等各個領域的適用性。

02. 電鏡選型
系列一 | 臺式場發(fā)射掃描電鏡
飛納臺式場發(fā)射掃描電鏡，完全防震，在臺式機身上獲得接近大型場發(fā)射的性能。優(yōu)秀的低電壓成像能力，可減輕電子束對樣品的損傷和穿透，最大程度還原樣品的真實形貌。延續(xù)電鏡能譜一體化設計，升級的快速面掃可以即時顯示所選元素的分布情況，實時能譜分析功能大幅提升了檢測效率。

產品特點

• 肖特基場發(fā)射電子槍
• 分辨率最高的臺式電鏡
• 可選 STEM 模式：BF、DF、HAADF 像
• 卓越的低電壓成像
• 電鏡能譜一體化設計
• 不受震動、磁場等環(huán)境因素干擾

型號推薦
Pharos STEM 掃描透射電鏡

• 分辨率：優(yōu)于 1nm
• 成像模式：BF、DF、HAADF

Pharos G2 臺式場發(fā)射掃描電鏡

• 分辨率：優(yōu)于 1.5 nm
• 放大倍數：2,000,000 X

Nano G2 臺式場發(fā)射掃描電鏡

• 分辨率：優(yōu)于 2.5 nm
• 放大倍數：1,000,000 X

系列二 | 六硼化鈰燈絲（CeB6）掃描電鏡
全新一代六硼化鈰（CeB6）晶體燈絲掃描電鏡，臺式設計，完全防震。操作便捷，適用不同經驗級別的用戶，培訓 30 分鐘即可上手操作。支持拓展各種特色功能。

產品特點

• 獨家采用 CeB6 燈絲，高分辨成像，使用時長不低于 1500h
• 成像最快的掃描電鏡：15s 抽真空，30s 成像
• 電鏡能譜一體化設計
• 不受震動、磁場等環(huán)境因素干擾

型號推薦
Phenom XL 大樣品室卓越版

• AI 智能化全自動掃描電鏡：Maps 地圖式多模態(tài)、多維度自動掃描拼圖及關聯(lián)系統(tǒng)
• 100x100mm 大樣品倉室：36 個樣品位、超越落地式電鏡的樣品可視區(qū)域（100*100 mm）；可選配原位拉伸/壓縮樣品臺
• 完全集成能譜 EDS（選配）：原廠集成能譜探測器，實時能譜面掃，物相分析，大面積能譜拼圖
• 開放編程接口的自動化掃描電鏡：支持自定義腳本編程，自定義專屬您的SEM工作流，可自定義自動化拍照、自動形成數據報告等

高性價比系列推薦
Phenom ProX

• 放大倍數：350,000 X
• 分辨率：優(yōu)于 6 nm
• 探測器：BSD，SED（可選），EDS

Phenom Pro

• 放大倍數：350,000 X
• 分辨率：優(yōu)于 6 nm
• 探測器：BSD，SED（可選）

Phenom Pure

• 放大倍數：175,000 X
• 分辨率：優(yōu)于 10 nm
• 探測器：BSD，SED（可選）

系列三 | ParticleX 全自動掃描電鏡
ParticleX 以掃描電鏡和能譜儀為基礎，結合自動控制系統(tǒng)以及強大的數據庫系統(tǒng)，可以全自動對雜質顆粒進行快速識別、分析和分類統(tǒng)計，為客戶的研發(fā)以及生產提供快速、準確和可靠的定量數據支持。

型號推薦
ParticleX Battery 全自動鋰電清潔度分析

• Cu、Zn 異物及鐵磁性異物檢測

ParticleX TC 全自動汽車清潔度檢測

• 符合 ISO16232，VDA19 標準

ParticleX Steel全自動鋼鐵夾雜物分析

• 一體化鋼中非金屬夾雜物分析

ParticleX 全自動顆粒統(tǒng)計分析

• 顆粒分析及過程控制的工業(yè)級解決方案

系列四 | 刑偵司法鑒定專用掃描電鏡
Phenom GSR 槍擊殘留物分析

在槍支犯罪事件中，槍擊殘留物（GSR）的分析發(fā)揮著重要的作用。GSR 分析技術首先基于掃描電子顯微鏡（SEM）的背散射成像，用來掃描樣品和發(fā)現(xiàn) “可疑” 的 GSR 顆粒。一旦發(fā)現(xiàn)可疑的顆粒，使用能譜（EDS）識別該顆粒的元素。最常見的搜索元素為 Pb，Sb 和 Ba。無鉛底火的檢測，例如 Ti 和 Zn 也可作為搜索條件進行搜索。

Diatom AI 自動檢測系統(tǒng)（電鏡）

DiatomAI™ 利用人工智能的技術，賦能法醫(yī)硅藻檢驗系統(tǒng)，配合 DiatomScope™ ，實現(xiàn)了掃描和檢測的全自動化。它是目前市面上最可靠、最高效、自動化程度最高的硅藻檢測解決方案，幫助法醫(yī)在檢測過程中實現(xiàn)硅藻的全自動檢測，識別過程全程無需人工參與。大大縮短了檢測時間，提升工作效率。

03. SEM 樣品制備
SEMPREP SMART 配備了高能量和可選的低能量氬離子槍。用于掃描電子顯微鏡（SEM）和電子背散射衍射（EBSD）樣品的最終加工和清潔。離子加工可以改進和清潔機械拋光的 SEM 樣品，并為 EBSD 分析制備無損表面。該設備還適用于快速截面加工。為您制備高精度和高質量的樣品，例如在半導體測試或鋰離子電池隔膜的截面檢查中均能實現(xiàn)出色的效果。

產品特點

• 氬離子束無應力處理樣品
• 定位精準：可實現(xiàn)± 1微米
• 離子槍能量最高：0-16KV
• 超大樣品腔室：可容納直徑 50mm 樣品
• 獨家制冷設計：液氮 LN2 制冷
• 可選配真空轉移功能

應用案例｜電子器件失效分析
在對焊接部位的焊接情況進行分析時，需要觀測該部位剖面的合金相分布情況，此時需要用到截面切削的制樣設備--離子研磨儀，進行無應力樣品切削制備后，使用飛納電鏡進一步分析焊接情況。

1,000X (Mix模式，離子研磨后)
3,000X (Mix 模式，離子研磨后)

進一步結合 EDS 能譜面掃分析可知：銀-錫膏和銅面結合，界面有銅-錫為主合金化晶粒生長，銅引腳有鍍鎳層，并在內部發(fā)現(xiàn)有大量的鐵富集相夾雜，近銅界面發(fā)現(xiàn)有氣孔存在。
 

焊錫截面掃描電鏡 EDS 能譜面掃結果

使用 SEMPREP SMART 處理后的掃描電鏡（ SEM）圖：

氧化鋁陶瓷材料掃描電鏡圖

半導體失效分析（掃描電鏡圖）

鋰電池正極極片掃描電鏡圖